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                  在PECVD系統中做真空檢漏

                  在PECVD系統中做真空檢漏

                  發布時間:2021-08-12 瀏覽次數:196
                  今天諾泰科技來給大家介紹下真空檢漏在PECVD系統中的應用。

                  真空檢漏工作針對的就是漏氣,也叫實漏,是指氣體通過真空系統上的漏孔或間隙,從高壓側流向低壓側。有實漏,然后對應的有一個虛漏,它是指泄漏的氣體是由于材料放氣、解吸、凝結氣體的再蒸發或系統內的死空間氣體流出等原因使真空系統或容器壓力升高,這也是真空檢漏工作需要排除的。

                  pecvd系統

                  PECVD技術是借助微波或射頻等使含有薄膜成分原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使化學反應能在較低的溫度下進行,利用了等離子體的活性來促進反應。其優點是基本溫度低;沉積速率快;成膜質量好,針孔較少,不易龜裂。

                  PECVD系統工藝中由于等離子體中高速運動的電子撞擊到中性的反應氣體分子,就會使中性反應氣體分子變成碎片或處于激活的狀態容易發生反應。因此PECVD設備對反應腔室及管道的泄漏要求很高,必須要應用氦質譜檢漏儀來查找漏點。

                   

                  真空檢漏的方法很多,氦質譜檢漏儀的使用大大提升了檢漏工作效率。

                  漏孔是指真空器壁上存在的形狀不定、極其微小的空洞或間隙。大氣通過其進入真空系統或容器中;
                  隨著科技的迅猛發展,氦質譜檢儀及其應用技術也在不斷發展和究善。各國的設備廠商相繼推出了多種類烈的氦質譜檢涮儀,廣泛應用丁航空航天,電力電子,汽車,醫藥等各個行業,綜觀最新氦質譜檢漏儀的性能特點發現,氦質譜檢漏儀正向著高靈敏度、自動化、寬最程、等先進方向發展,這些特點很好地滿足了當前檢漏應用的需求,也極大地推動了氮質譜檢漏技術的不斷發展。

                   


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