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                  PECVD制備薄膜材料基本過程

                  PECVD制備薄膜材料基本過程

                  發布時間:2021-08-12 瀏覽次數:128
                  一般說來,采用PECVD系統技術制備薄膜材料時, 薄膜的生長主要包含以下三個基本過程:
                  PECVD系統
                  (一) 在非平衡等離子體中, 電子與反應氣體發生初級反應, 使得反應氣體發生分解, 形成離子和活性基團的混合物;
                  (二) 各種活性基團向薄膜生長表面和管壁擴散輸運,同時發生各反應物之間的次級反應;
                  (三) 到達生長表面的各種初級反應和次級反應產物被吸附并與表面發生反應, 同時伴隨有氣相分子物的再放出。

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