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                1. 專注于高溫加熱設備的工匠|真空爐|箱式爐|管式爐|氣氛爐|高溫爐|PECVD系統|氣氛燒結爐

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                  真空爐,箱式爐,管式爐,氣氛爐
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                  石墨稀-碳納米管材料CVD設備

                  石墨稀-碳納米管材料CVD設備

                  石墨稀-碳納米管材料CVD設備

                  PT-T1050-CVD-LZ型石墨稀、碳納米管材料CVD設備由管式爐+真空系統+供氣系統+水冷系統組成 ,最高溫度可以達到1050度,可以是單溫區、雙溫區、三溫區等,極限真空最高可以達到10-3Pa

                  產品介紹:
                      PT-T1050-CVD型石墨稀、碳納米管材料CVD設備由管式爐+真空系統+供氣系統+水冷系統組成 ,最高溫度可以達到1050度,可以是單溫區、雙溫區、三溫區等,極限真空最高可以達到10-3Pa,供氣系統是流量調節可以是質子流量計或浮子流量計,混氣路數可以是2路、3路、4路、5路相混合。

                      管式爐采用摻鉬合金加熱絲為加熱元件,采用雙層殼體結構和宇電控溫儀表,能進行30段程序控溫,移相觸發、可控硅控制,爐膛采用日本進口氧化鋁多晶纖維材料,具有溫場均衡、表面溫度低、節能等優點。

                      軟件控制系統:該爐配有通訊接口和軟件,可以直接通過電腦控制爐子的各個參數,并能從電腦上觀察到爐子上PV和SV溫度值和儀表的運行情況,爐子的實際升溫曲線電腦會實時繪出,并能把每個時刻的溫度數據保存起來,隨時可以調出。
                   
                  應用范圍:
                      該設備主要用于石墨稀、納米材料工藝涂層、多晶硅、碳化硅、擴散、氧化、退火等工藝。
                     
                  參數詳情:

                  產品名稱 石墨稀、碳納米管材料CVD設備
                  產品型號 PT-T1050-CVD
                  爐型結構 臥式、單管或多管系統自動控制
                  適應晶片尺寸 50--200mm
                  取片方式 自動懸臂石英推拉舟,配合手動取、放片
                  最高溫度 1050℃
                  極限真空度 優于1Pa
                  溫度穩定性 400℃~850℃≦+-0.5℃/24h
                  抽速 抽至極限真空時間15min左右
                  供電電源 380V 50Hz 三相五線
                  選配 冷卻水:2~4KGF/c㎡,8L/min
                  更多規格可根據需求定制

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