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                1. 專注于高溫加熱設備的工匠|真空爐|箱式爐|管式爐|氣氛爐|高溫爐|PECVD系統|氣氛燒結爐

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                  立式PECVD設備

                  立式PECVD設備

                  立式PECVD設備

                  立式PECVD系統,由真空立式管式爐、射頻電源、供氣系統、石英真空室、真空測量系統組成。

                  產品概述:
                  PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜,此立式PECVD設備真空立式管式爐、射頻電源、供氣系統、石英真空室、真空測量系統組成。

                   

                  PECVD系統配置:

                  1.1200度開啟式滑動單溫區真空管式爐

                  2.等離子射頻電源

                  3.多路質量流量控制系統

                  4.真空系統
                   

                   

                  產品特性:

                  立式PECVD設備溫度范圍寬;濺射區域長;整管可調;精致小巧,性價比高,可實現快速升降溫,是實驗室生長薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,復合薄膜等的理想選擇。立式PECVD系統以含鉬電阻絲為加熱元件,采用雙層殼體結構和30段程序控溫儀表,移相觸發、可控硅控制,爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料,具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優點。


                   

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